泰纳克熔片机采用新型高性能保温隔热材料，马弗炉式结构，炉内安装了拥有自主知识产权的、可旋转的高温陶瓷载样盘，可放置4个自动成形用的坩埚。炉体可进行程控摆动，通过载样盘的旋转和炉体的摆动实现样品的均匀化。熔样温度、熔样时间、转摆频率和总次数等参数由配备有大型液晶显示屏的控制面板设置，简便、易学。
特点：
1、采用电热熔样方式，温度控制精度高，在通常熔样温度下温度显示误差优于±3℃，可为分析过程提供可靠的质量保证，并可为研究工作提供准确的试验参数。
2、可在15分钟内，同时制备4个样品，并自动成形。单个样品的平均制样时间为～4分钟。
3、陶瓷载样盘（号：ZL03266100.2），可直接放置铂－黄合金坩锅，造价便宜，使用寿命长。
4、样品混匀机构和炉体结构（号：ZL03260941.8），借助于电动推杆和减速马达，可实现三维转摆，充分混匀；还可利用减速马达调节载样盘的位置，便于取放样品。
5、采用小炉门设计，能保护加热元件及炉膛免受大的热冲击，并减小开启炉盖后的泄温，使连续熔样操作时升温快。
6、采用高性能保温、隔热材料，熔样机总功率小于3kW，远低于同类产品。
7、熔样参数设置采用人机对话方式，单一键盘输入，易于理解，便于操作，2分钟内学会使用。整机采用模块化设计，便于维护、维修和升级。
8、系统使用安全、寿命长、性能价格比高。
9、熔融样片均匀平整、无气泡，满足高精度分析要求。
熔片机坩埚使用注意事项：
1、减少腐蚀：这也是zui重要的。任何氧化不*的物质都可能引起对坩埚的腐蚀，比如硫化物、铁合金、Cu2O等，所以不要抱有任何侥幸心理，在熔融前需要对样品有充分的了解。
2、清洗：坩埚在使用过程中，由于某些特殊样品可能会导致脱模效果不好，坩埚中会黏附玻璃残渣。残渣快速的清洗方法一般用稀酸煮沸，需强调的是必须用单一酸，或硝酸，或盐酸，千万不能用硝酸和盐酸的混酸。另一种方法就是加入熔剂再进行一次熔融，脱模后倾倒出玻璃片即可。
3、抛光：对于一些轻微的腐蚀，比如坩埚失去光泽时，可以尝试对坩埚进行一次抛光。一般可用绒布或细粒砂纸（比如800目）高速摩擦坩埚，使坩埚恢复光滑。抛光操作一定要小心，切不可用粗砂纸直接摩擦坩埚。如果腐蚀太严重时，对坩埚进行一次重铸。
